专利名称：非易失性存储器装置专利类型：发明专利
发明人：朴世准,刘民胎,李载德申请号：CN201911005796.9申请日：20191022公开号：CN111081711A公开日：20200428
摘要：提供了一种可靠性得到改善的非易失性存储器装置。该非易失性存储器装置包括：模制结构，其包括顺序地堆叠在衬底上的第一绝缘图案、第一栅电极和第二绝缘图案；半导体图案，其穿透模制结构，连接到衬底，并在第一方向上延伸；第一电荷存储膜，其在第一方向上延伸，并位于第一绝缘图案与第二绝缘图案之间以及第一栅电极与半导体图案之间；以及阻挡绝缘膜，其位于第一栅电极和第一电荷存储膜之间，其中，第一电荷存储膜在第一方向上延伸的第一长度比阻挡绝缘膜在第一方向上延伸的第二长度长。
申请人：三星电子株式会社
地址：韩国京畿道
国籍：KR
代理机构：北京天昊联合知识产权代理有限公司
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容